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一种采用原子层沉积技术沉积氧化物薄膜的装置及方法

分类 : 技术

发布人 : 客服

日期 : 2024-10-23

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本成果涉及一种采用原子层沉积技术沉积氧化物薄膜的装置及方法, 降低了沉积的氧化物薄膜的针孔率, 可应用于其他电子专用设备制造。

技术信息

信息分类 成果 愿意合作方式 成果转让
成果成熟度类型 通过中试 有效截止时间 2027-10-13
交易状态 技术正在推广
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